桌面级光刻机将数天工序压至数分钟 降低芯片制造门槛！美国得克萨斯大学奥斯汀分校的研究团队开发出一种桌面级极紫外光刻装置，并结合新型三维纳米打印技术，将原本需要数天完成的加工过程压缩至数分钟，进一步降低了半导体芯片制造门槛。该技术不仅适用于芯片制造，还有望应用于纳米药物、量子计算和新材料合成等领域。相关研究成果发表于《纳米快报》。
EUV光刻是当前先进芯片制造的核心技术，通过利用极紫外光将电路图案“打印”到硅基底上，最终形成手机、电脑等电子设备中的芯片。然而，现有商用EUV光刻机造价通常超过2亿美元，体积庞大，导致全球仅有少数企业具备使用和研发能力。
为降低研究门槛，研究团队大幅简化了传统EUV光刻系统，仅保留核心组件，开发出一套体积更小、成本更低且更易改造的桌面级设备。同时，他们引入了一种名为“体积式3D图案化”的新型打印技术，突破了现有EUV光刻技术在制造三维纳米结构时只能逐层堆叠打印的限制。新技术能并行构建多个纳米层级结构，而非逐层堆叠，从而将曝光时间缩短至几分钟。
研究团队表示，这项工作的目标是降低半导体研究成本，加快新材料和新工艺开发。目前，他们已利用该装置测试了新型EUV光刻材料，未来还将开展更多实验验证。现阶段，该技术主要适用于具有周期性结构的器件制造，例如存储芯片和光子器件。团队希望进一步提高打印速度和加工复杂度，实现更小尺寸半导体结构的制造，从而提升芯片计算性能。
